株式会社インターフェイス | ta-C X DLC SiC-CVD 各種 PVD CVDのコーティング受託加工、装置設計製作

信頼と15年の実績
PVD CVD コーティングシリーズ

お客様の多種多様なニーズに応えるべく、さまざまな特徴を有したコーティングをご用意しております。

ta-C X 高硬度 DLC

高硬度水素フリーDLCコーティング
500mmの長さまで処理可能
150℃以下の低温処理
多様な材質に処理が可能
高い表面平滑性

CVD-SiC

化学蒸着炭化ケイ素
2mm以上の高純度SiCの厚膜可能
微細CVD-SiC結晶膜が可能
大型製品への処理が可能
多数の実績

MAD処理

マッド処理
独自のプラズマ処理による表面改質
剥離の心配は不要
200℃以下の低温処理
CrNコーティング及びクロムメッキ上への処理で性能向上

TiN 高硬度 HV3000 強化膜

通常アーク方式を元に電磁収束とプラズマ強化技術を応用に、
特殊プロセスによりTiN膜層の構成粒子を細かくし、硬度も粗さも性能を全面的に強化した膜です。

株式会社インターフェイスとは

PVD、CVDコーティングのエキスパート集団
最新表面処理技術やその応用を国内外に提供

コーティング装置ラインアップ

金属・セラミックス等への表面処理受託加工
CVDによるSiCコート
CVDによるTi系コート
MAD処理による耐磨耗、耐食コート
PVDによるDLCコート
PVDによるta-Cコート
CVD、PVD装置設計、製造、開発
真空装置の設計
ガス供給装置の設計

コーティング装置設計製作

ご希望と用途に合わせた表面処理装置の製作・設計が可能です。ご希望価格に合わせて装置の設計製作をいたします。

アーク放電式PVD装置

アークイオンプレーティング方式によるコーティング装置。独自開発のドロップレッドを低減するシステムにより、高い密着性を維持しながらホローカソード式に匹敵する表面粗さを実現。 ta-C、DLC、Ti系、Cr系の成膜が可能。

CVD Ti 系装置

弊社CVD-Ti系膜はクロムメッキや軟窒化法に比べて、耐摩耗性・耐熱性・耐蝕性及び、耐剥離性に優れ、治工具類ではその耐用寿命を飛躍的に延ばすことができます。コーティング膜はTiC、TiN等の単層コーティングに加えて、TiC+TiN等の多層膜コーティングも取りそろえております。

CVD-SiC装置

インターフェイス CVD SiC(化学蒸着法炭化ケイ素)は高硬度、耐熱性に優れた半導体特性を持つ薄膜です。弊社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、高純度のSiC膜を最大２ｍｍ以上析出してバルクのSiCを作成しております。

DLCコーティング装置

炭化水素ガスを熱フィラメントでイオン化する装置。電源をメーカー市販の電源を用いて、驚異の低価格。コーティング受託処理実績によるノウハウご希望と用途に合わせたDLC装置の設計製作が可能です。希望価格に合わせて装置の設計製作をいたします。

㈱インターフェイスへの表面処理、資料請求に関するご質問等、お気軽にご連絡くださいませ。